Trifluoruro de nitrógeno  Fabricantes, Comerciantes, Proveedores

El trifluoruro de nitrógeno desempeña un papel fundamental en la fabricación de semiconductores y otras aplicaciones industriales. El trifluoruro de nitrógeno se utiliza en el proceso de deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) en la fabricación de semiconductores. Es fundamental para limpiar y depositar películas críticas para los componentes electrónicos de alto rendimiento. En los procesos fotolitográficos, el trifluoruro de nitrógeno actúa como agente fluorante y contribuye a la creación de patrones precisos, cruciales para la microfabricación y la fabricación de chips.

Peso molecular: 71,002
Punto de ebullición: -129,05 a 1,013 bar [℃] / -200,29 a 14,5 psi, [℉]
Densidad: 3,015 a 1,013bar, 15℃, [kg/m3] / 0,184 a 1 atm., 70 ℉, [lb/ft3]
Rango de inflamabilidad en aire, [% volumen]: No combustible
Volumen específico: 0,332 a 1,013bar, 15℃, [m3/kg] / 5,43 a 1 atm., 70 ℉, [ft3/lb]

1. El trifluoruro de nitrógeno se utiliza como grabador selectivo de alta velocidad en el procesamiento del silicio. Se ha utilizado para grabar silicio, polisilicio, nitruro de silicio y óxido de silicio, así como metales refractarios y siliciuros.
2. El trifluoruro de nitrógeno se utiliza a veces como fuente de flúor en los láseres químicos HF /DF. El trifluoruro de nitrógeno se utiliza como agente fluorante. El trifluoruro de nitrógeno también se utiliza para el tratamiento de fibras.